AI 设计 提交需求
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瑞士先进制造合作伙伴

AI设计功能芯片——不止于MEMS

把功能需求转化为可制造架构,覆盖压电、光子、III–V与宽禁带材料体系,并支持多材料单片集成与晶圆级规模化。

AI协同设计 · 多材料单片集成 · 晶圆级规模化

不止于MEMS:使用25FAB AI设计各种功能芯片

提交MEMS、光子、超表面、化合物半导体或定制器件的功能指标。平台将需求转化为可制造架构与多材料集成路线。

约3分钟生成AI首版架构
3–6个月目标晶圆级芯片交付路线
支持压电、光子、III–V及宽禁带材料体系的单片与异质集成。
定义器件指标比较设计方向生成可制造需求简报
付款今日确认:技术需求完整且可执行,可于当日交付专业工程设计包。
打开 AI Design ↗提交设计需求25FAB 设计工作区 · 在新标签页打开

旗舰平台

用两个最具商业辨识度的平台,让客户第一眼就理解25FAB能提供什么。

压电 MEMS 微镜
压电 MOEMS

压电 MEMS 微镜

低电压压电驱动,实现快速、精准的光束偏转与光学扫描。

快速谐振扫描
低电压压电驱动
定制器件工程
从样品到规模化
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PMUT 定制平台
超声换能芯片

PMUT 定制平台

五个清晰的商业化PMUT频段覆盖1–60 MHz,面向OEM工程样品、试产与批量项目。

1–5 / 5–10 MHz
10–20 / 20–40 MHz
40–60 MHz
32到1024+阵元
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技术平台

面向MEMS、光子和化合物半导体器件的专业开发与制造路线。

PMUT定制平台

PMUT定制平台

1–60 MHz可配置PMUT芯片与阵列,并提供清晰的OEM频段系列,覆盖工程样品、试产与批量项目。

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压电MEMS麦克风与扬声器

压电MEMS麦克风与扬声器

宽频带、小型化的压电MEMS声学器件。

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压电MEMS微镜

压电MEMS微镜

低电压压电驱动,实现快速、精确的光束偏转与光学扫描。

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SiC平台

SiC平台

面向高功率、恶劣环境及先进传感的坚固平台。

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InP平台

InP平台

面向通信、传感与集成光源的高速光子与光电平台。

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InAs / InGaAs平台

InAs / InGaAs平台

面向红外探测、传感与集成光电子的先进III-V平台。

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PIC平台

PIC平台

面向可扩展光学系统的光子集成电路平台。

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PIC + 压电 / BTO集成

PIC + 压电 / BTO集成

将集成光子与压电器件及BTO功能材料结合,用于可调谐光学器件、高速调制和异质集成。

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超表面与超透镜平台

超表面与超透镜平台

面向光束整形、聚焦、传感与3D成像的定制超表面、超透镜和平面光学器件。

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GaN与先进定制平台

GaN与先进定制平台

面向超表面、光子、传感和项目定制集成的GaN及先进半导体平台。

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从需求到制造的清晰路径

清晰的项目阶段,让OEM和deep-tech团队知道如何开始,以及如何推进规模化。

01

定义需求

明确功能、频率、孔径、几何、接口与交付形式。

02

工程开发

将器件架构与工艺路线对齐目标应用。

03

样品验证

通过工程样品或晶圆完成第一阶段物理验证。

04

规模化

通过试产和专用晶圆批次推进到可重复供应。

讨论项目

把功能需求转化为可制造架构,覆盖压电、光子、III–V与宽禁带材料体系,并支持多材料单片集成与晶圆级规模化。

25FAB AI辅助工程设计

告诉25FAB您的项目需求

请提交可直接进入工程评估的技术需求。网站不会保存任何输入;最后一步只会在您的本地邮件客户端生成预填邮件。

付款确认当日交付设计包

在付款确认且技术需求完整、可执行的前提下,设计包可于当天交付。晶圆制造、验证和定制工艺开发采用独立项目周期。

付款 → 设计
请选择设计类别,系统将加载对应的专业工程参数。打开25FAB AI Design工作区 ↗
01设计需求说明
必填项。
选择不同设计类别后,下方会自动显示对应的专业工程提示。
02需要的交付内容
03公司 / 机构
必填项。