Custom wafer development · Dedicated runs · Scale-up

SiC-Plattformen

Custom silicon-carbide device and process platforms for photonics, MEMS, sensing, power electronics and demanding operating environments.

Robuste Halbleiter- und MEMS-Plattformen für hohe Leistung und raue Umgebungen.

Harsh-environment capability
High thermal and mechanical stability
Custom wafer and device processing
Engineering samples to repeat production
SiC-Plattformen

Unser Lieferumfang

  • SiC wafers and device structures
  • Custom etch and metallisation processes
  • MEMS and photonic structures
  • Diced chips and full-wafer delivery
  • Engineering wafers and pilot lots
  • Metrology and inspection options

Konfigurierbare Parameter

  • SiC polytype and wafer type
  • Device-layer thickness
  • Critical dimensions
  • Etch depth and profile
  • Metallisation and contacts
  • Wafer size and quantity

Anwendungsbereiche

  • Power and RF devices
  • Harsh-environment sensors
  • High-temperature MEMS
  • Photonics and quantum devices
  • Industrial inspection
  • Advanced research platforms

Fertigungsweg

1

Engineering-Samples

2

Pilotproduktion

3

Serienproduktion

Reale Fertigung & Charakterisierung

Ausgewählte 25FAB- und projektbezogene Fertigungsbilder mit stärkerer kommerzieller Präsentation.

Kontakt

SiC-Plattformen